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光電化學蝕刻反應下n型 (100) 矽與氫氟酸溶液界面間之能帶圖研究:Energy Bands for the Interface between n-type Si(100) and HF Solution in the Photoelectrochemical Etching Reaction
鄭文達 林景崎 Jehng, Wern-dare; Lin, Jing-chie;
防蝕工程
19:1 民94.03
頁83-89
TCI引用統計