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題 名:
ADI利用陰極電弧電漿沈積TiN/TiAIN硬膜之研究:Study of ADI Surface Coated TiN/TiAIN by Cathodic Arc Plasma Deposition
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31:2=125 民94.06
- 頁 次:
頁1-6
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31:1=124 2005.03[民94.03]
- 頁 次:
頁1-7