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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34 1998.12[民87.12]
- 頁 次:
頁93-103
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35 1999.06[民88.06]
- 頁 次:
頁129-136
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5 1998.07[民87.07]
- 頁 次:
頁1-5
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5 1992.06[民81.06]
- 頁 次:
頁(4)1-(4)9
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
復刊5 民90.08
- 頁 次:
頁23-30
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題 名:
Thickness Effect on Fluorine Effects on As狇-Doped Polycrystalline Silicon Thin Films:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
8 2000.07[民89.07]
- 頁 次:
頁70-85
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題 名:
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題 名:
A Study of Schottky Barrier Diodes with High Breakdown Voltage:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
8 2000.07[民89.07]
- 頁 次:
頁334-356
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
30:1 2002.03[民91.03]
- 頁 次:
頁93-97
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4 1997.07[民86.07]
- 頁 次:
頁19-24
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4 1997.07[民86.07]
- 頁 次:
頁57-66
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題 名:
The Initial Growth Mechanism of Liquid Phase Deposition Silicon Dioxide:液相沉積二氧化矽之初始成長機制
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4 1996.05[民85.05]
- 頁 次:
頁62-73
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
20:1 2002.06[民91.06]
- 頁 次:
頁243-260
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9 2002.09[民91.09]
- 頁 次:
頁113-117
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9 2002.09[民91.09]
- 頁 次:
頁561-566
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
21:1 2003.07[民92.07]
- 頁 次:
頁325-337
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
8 1995.10[民84.10]
- 頁 次:
頁267-272
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題 名:
Superior characteristics of thermal oxide layers grown on amorphous silicon films:成長於非晶矽上之熱氧化層之優越特性
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14 1989.05[民78.05]
- 頁 次:
頁175-178
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
10 1990.11[民79.11]
- 頁 次:
頁113-128
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
33:3 民94.09
- 頁 次:
頁469-478
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
39:3 2014.09[民103.09]
- 頁 次:
頁81-94