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Challenges and Performance Limitations of High-k and Oxynitride Dielectrics Materials for Low Power CMOS Applications:High-k and SiON材料為閘極絕緣體應用在低阻電源CMOS元件的瓶頸與限制
譚湘瑜 劉宗慶 Tan, S. Y.; Liu, T. C.;
華岡工程學報
19 2005.06[民94.06]
頁135-140
TCI引用統計