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檢索結果筆數(6)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
3 民94.12
- 頁 次:
頁42-49
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35 2013.11[民102.11]
- 頁 次:
頁21-26
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題 名:
原子力顯微鏡搭配雙傾斜疊合法量測線寬之技術研究:AFM Linewidth Measurement Employing Image Stitching Method
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35 2013.11[民102.11]
- 頁 次:
頁36-45
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題 名:
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題 名:
使用XR與XPS分析二氧化鉿薄膜退火之膜層結構變化:Layer Structure Analysis of Thin HfO₂ Film by XR and XPS Technique
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
27 2011.12[民100.12]
- 頁 次:
頁4-12
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
21 2010.06[民99.06]
- 頁 次:
頁25-34
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題 名:
奈米探針資料儲存技術發展現況:The Development of Probe-Base Data Storage Technology
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5 民95.05
- 頁 次:
頁43-51
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題 名: