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以原子層化學氣相沉積之高介電薄膜於金氧半場效電晶體的應用:Atomic-Layer-Deposited High-κ Dielectrics Used as the Gate Oxides for the MOSFET Application
邱彥凱 張哲豪 吳泰伯 Chiou, Yan-Kai; Chang, Che-Hao; Wu, Tai-Bor;
科儀新知
29:1=159 2007.08[民96.08]
頁6-13
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