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題 名:
實物現場X-ray殘留應力量測及其振動應力消除技術:The On-Site X-ray Stress Measurement and Vibratory Stress Relief Technique
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
207 2016.06[民105.06]
- 頁 次:
頁44-54
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題 名:
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題 名:
深槽技術於CMOS共平面波導與晶片隔絕度之應用:Deep Trench Technology for CMOS CPW and On-Chip Isolation
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
30:2=166 2008.10[民97.10]
- 頁 次:
頁42-47
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題 名:
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題 名:
應用X光繞射/散射技術研究生物膜結構:X-Ray Diffraction/Scattering on Bio-Membrane Structure Study
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
30:5=169 2009.04[民98.04]
- 頁 次:
頁43-50
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題 名:
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題 名:
金屬氧化物奈米矽晶光二極體元件之發展現況:Progress and Status of Silicon Nanocrystal Based MOS Light Emitting Diodes
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
29:4=162 2008.02[民97.02]
- 頁 次:
頁5-12
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
28:6=158 2007.06[民96.06]
- 頁 次:
頁60-67