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真空製程在透明氧化物薄膜的開發應用--複合介電層/金屬層堆疊作為透明導電電極之應用:Vacuum Process in Transparent Conductive Oxide Development--Composite Dielectric & Metal Stacking Layers for Transparent Conductive Electrode Application
陳邦旭 鍾朝安 Chen, Pang-shiu; Jong, Chao-an;
科儀新知
210 2017.03[民106.03]
頁58-67
TCI引用統計