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題 名:
ALD設備與產業展望:Industrial Applications and Development Prospect of Atomic Layer Deposition
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:2=196 2013.10[民102.10]
- 頁 次:
頁71-80
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題 名:
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題 名:
原子層沉積技術在奈米製程之應用:Application of Atomic Layer Deposition on Template-Directed Growth of Nanostructures
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
30:2=166 2008.10[民97.10]
- 頁 次:
頁55-64
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
221 2019.12[民108.12]
- 頁 次:
頁88-100
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題 名:
應用於原子層沉積之臨場量測技術:The In-situ Measuring Technologies Applied on Atomic Layer Deposition
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
210 2017.03[民106.03]
- 頁 次:
頁47-57
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題 名:
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題 名:
多功能式極紫外光微影元件檢測服務平臺:Multi-functional Extreme Ultraviolet Lithography Component Inspection Platform
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
240 2024.09[民113.09]
- 頁 次:
頁45-56
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題 名: