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基板偏壓對反應濺鍍TiAlN鍍層的影響:Effects of Substract Bias on the Reactive Sputtered TiAlN Films
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14:2 2001.07[民90.07]
- 頁 次:
頁13-18
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
33:3 2020.09[民109.09]
- 頁 次:
頁33-48