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- 題 名:
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- 卷 期:
25:4 2012.12[民101.12]
- 頁 次:
頁26-32
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題 名:
電漿輔助原子層沉積釕與氮化鉭薄膜製程研究:Ru and TaNx Thin Films Grown by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
26:1 2013.03[民102.03]
- 頁 次:
頁21-26
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
28:3 2015.09[民104.09]
- 頁 次:
頁5-9
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
21:1/2 2008.06[民97.06]
- 頁 次:
頁16-21
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
22:1 2009.03[民98.03]
- 頁 次:
頁6-16
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
22:4 2009.12[民98.12]
- 頁 次:
頁39-44
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
19:2 民95.11
- 頁 次:
頁140-146
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
23:2 2010.06[民99.06]
- 頁 次:
頁32-37
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題 名:
以PECVD鍍膜技術製備疏水薄膜應用於光學鏡片:Preparation of Hydrophobic Thin Film by PECVD Technology for Optical Lens
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:3 2019.09[民108.09]
- 頁 次:
頁20
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31:2 2018.06[民107.06]
- 頁 次:
頁(22)1-(22)6
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題 名:
電漿輔助原子級氣相沉積技術介紹:Introduction of Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition Technique
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
30:4 2017.12[民106.12]
- 頁 次:
頁58-64
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題 名:
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- 題 名:
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- 書刊名:
- 卷 期:
37:1 2024.03[民113.03]
- 頁 次:
頁6