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鈦底層材料誘發反應性濺鍍鉭基擴散層之相轉變行為:Phase Formation behavior in reactively Sputtered Ta-based Barrier Layers Induced by a Titanium Underlayer
陳松德 許振聲 黃獻慶 陳慶洪 陳錦山 Chen, S. T.; Hsu, C. S.; Huang, S. C.; Chen, E. C.; Chen, G. S.;
真空科技
12:1 1999.05[民88.05]
頁16-25
TCI引用統計