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不同靶材於高功率脈衝磁控濺鍍技術之電性分析:The Electrical Analysis of Different Targets in High Power Impulse Magnetron Sputtering Technique
張奇龍 施効谷 陳威池 陳品宏 吳宛玉 Chang, Chi-lung; Shih, Siao-gu; Chen, Wei-chih; Chen, Pin-hung; Wu, Wan-yu;
真空科技
30:1 2017.03[民106.03]
頁49-57
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