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基板偏壓對反應濺鍍TiAlN鍍層的影響:Effects of Substract Bias on the Reactive Sputtered TiAlN Films
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- 卷 期:
14:2 2001.07[民90.07]
- 頁 次:
頁13-18
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題 名:
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- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9:2 1996.07[民85.07]
- 頁 次:
頁54-61
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題 名:
以電漿輔助離子化磁控濺鍍法製備Li-Ni-O薄膜及其特性分析:Ionized Magnetron Sputter Deposited Li-Ni-O thin Films
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
16:1 2003.06[民92.06]
- 頁 次:
頁21-26
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
19:2 民95.11
- 頁 次:
頁60-64