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The Effect of Ammonia Plasma Treatment on Low-k Methyl-Hybrido-Silsesquioxane (MHSQ) Against Photoresist Stripping Damage:氨電漿後續處理低介電常數材料(HOSP)以增強其抵抗於光阻去除製程中損害之研究
張鼎張 蔡宗鳴 莫亦先 劉柏村 梅玉貞 施敏 Chang, T. C.; Tsai, T. M.; Mor, Y. S.; Liu, P. T.; Mei, Y. J.; Sze, S. M.;
真空科技
14:2 2001.07[民90.07]
頁19-26
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