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題 名:
原子層沉積技術製作氧化鋁膜於薄膜電晶體之應用:Atomic Layer Deposited Al₂O₃ for Thin Film Transistor Applications
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
26:1 2013.03[民102.03]
- 頁 次:
頁34-44
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
24:3 2011.09[民100.09]
- 頁 次:
頁33-41
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題 名:
三五族化合物太陽能電池之電極結構發展:Development of Electrode Structure for III-V Compound Solar Cells
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
27:4 2014.12[民103.12]
- 頁 次:
頁31-36
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
23:1 2010.03[民99.03]
- 頁 次:
頁33-38
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
23:3 2010.09[民99.09]
- 頁 次:
頁31-35
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題 名:
Fabrication and Characterization of Ga₂O₃ Deep UV Photodetector by MOCVD:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:1 2022.03[民111.03]
- 頁 次:
頁39
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題 名:
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題 名:
有機金屬化學氣相沉積成長ZnGa₂O₄薄膜及其特性探討:Characterization of ZnGa₂O₄ Thin Films Grown by MOCVD
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31:1 2018.03[民107.03]
- 頁 次:
頁20_1-20_6
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題 名: