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NH₃ Nitridation-Induced Phase Changes and Property Improvements of ZrO₂/Al₂O₃/ZrO₂ Dielectric: Application to Metal-Insulator-Metal Capacitor in DRAM:低溫氮化引起之ZrO₂/Al₂O₃/ZrO₂介電層相變化與電性改良:應用於DRAM中金屬-絕緣體-金屬電容器
李名言 蔡濱祥 江佩錞 吳孝哲 巫勇賢 林裕荏 Li, Ming-yen; Tsai, Bin-siang; Jiang, Pei-chuen; Wu, Hsiao-che; Wu, Yung-hsien; Lin, Yu-jen;
真空科技
23:1 2010.03[民99.03]
頁12-17
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