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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
164 1988.08[民77.08]
- 頁 次:
頁46-48
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
24:10=279 1998.10[民87.10]
- 頁 次:
頁296-299
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
271 民94.10
- 頁 次:
頁117-127
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
58 1988.01[民77.01]
- 頁 次:
頁100-111
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題 名:
低壓化學氣相沉積應用技術:Low Pressure Chemical Vapor Deposition Technology
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
363 2013.06[民102.06]
- 頁 次:
頁72-81
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題 名:
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題 名:
透明導電膜製程設備之整合電控技術:The Integration of Electric Control Technology for TCO Process Equipment
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
363 2013.06[民102.06]
- 頁 次:
頁92-111
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題 名:
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題 名:
透明導電膜製程設備之整合電控技術:The Integration of Electric Control Technology for TCO Process Equipment
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
289 2014.06[民103.06]
- 頁 次:
頁59-78
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
37:9=434 2011.09[民100.09]
- 頁 次:
頁58-75
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
350 2012.05[民101.05]
- 頁 次:
頁107-116
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題 名:
大面積LPCVD氣流場模擬分析:Analysis of Flow Field in a Large-scale LPCVD Reactor
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
338 2011.05[民100.05]
- 頁 次:
頁10-18
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
338 2011.05[民100.05]
- 頁 次:
頁19-29
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題 名:
應用3D多體積方法模擬LPCVD之氣流場:The Simulation of Flow Field in LPCVD Using 3D Volumes Method
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
326 2010.05[民99.05]
- 頁 次:
頁87-95
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題 名:
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題 名:
滲碳熱處理的明日之星--真空滲碳:The New Technology of Carburizing Heat Treatment--Vacuum Carbuizing
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
304 2008.07[民97.07]
- 頁 次:
頁34-47
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
314 2009.05[民98.05]
- 頁 次:
頁96-103