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檢索結果筆數(12)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
80 2002.12[民91.12]
- 頁 次:
頁16-22
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
363 2013.06[民102.06]
- 頁 次:
頁39-52
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題 名:
金屬有機化學氣相沉積製程與設備技術:Metal Organic Chemical Vapor Deposition Method and Apparatus
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
285 2013.06[民102.06]
- 頁 次:
頁51-59
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
399 2016.06[民105.06]
- 頁 次:
頁83-96
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
85:2 2012.04[民101.04]
- 頁 次:
頁7-16
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
85:2 2012.04[民101.04]
- 頁 次:
頁25-35
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題 名:
MOCVD之加熱盤模組技術:Simulation of Direct Contact Heater in MOCVD Reactor
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
350 2012.05[民101.05]
- 頁 次:
頁11-25
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
350 2012.05[民101.05]
- 頁 次:
頁26-33
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題 名:
金屬有機化學氣相沉積製程與設備技術:Metal Organic Chemical Vapor Deposition Method and Apparatus
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
350 2012.05[民101.05]
- 頁 次:
頁34-42
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題 名:
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題 名:
MOCVD反應室內基板旋轉對流場之影響研究:Effect of Substrate Rotation on Flow Field Distribution in MOCVD Reactor
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
338 2011.05[民100.05]
- 頁 次:
頁154-160
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題 名:
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題 名:
MOCVD磊晶製程參數系統優化技術:Optimization through MOCVD CyberEpi Technology
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
435 2019.06[民108.06]
- 頁 次:
頁41-46
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題 名:
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題 名:
CVD磊晶物理模型系統分析技術:CVD Analysis Technology for Epitaxy Physical Model System
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
423 2018.06[民107.06]
- 頁 次:
頁31-39
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題 名: