查詢結果
檢索結果筆數(8)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
-
-
題 名:
透明導電膜製程設備之整合電控技術:The Integration of Electric Control Technology for TCO Process Equipment
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
363 2013.06[民102.06]
- 頁 次:
頁92-111
-
題 名:
-
-
題 名:
常壓電漿疏水抗污技術:Cover-Glass Anti-Stain Technology by Atmospheric Pressure Plasma
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
399 2016.06[民105.06]
- 頁 次:
頁107-115
-
題 名:
-
-
題 名:
透明導電膜製程設備之整合電控技術:The Integration of Electric Control Technology for TCO Process Equipment
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
289 2014.06[民103.06]
- 頁 次:
頁59-78
-
題 名:
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
351 2012.06[民101.06]
- 頁 次:
頁75-88
-
-
題 名:
電壓電漿設備技術:A Review of Atmospheric Pressure Plasma System Technology
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
304 2008.07[民97.07]
- 頁 次:
頁91-102
-
題 名:
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
287 2007.02[民96.02]
- 頁 次:
頁157-162
-
-
題 名:
感應耦合電漿蝕刻化學氣相沉積多晶鑽石膜之研究:Investigation of ICP Etching of CVD Diamond Film
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
287 2007.02[民96.02]
- 頁 次:
頁163-169
-
題 名:
-
-
題 名:
常壓電漿束於矽蝕刻之應用:Silicon Wafer Etching Technology by Atmospheric-Pressure Plasma
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
414 2017.09[民106.09]
- 頁 次:
頁65-71
-
題 名: