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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
33:5 1999.09[民88.09]
- 頁 次:
頁94-95
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
181 1991.06[民80.06]
- 頁 次:
頁51-57
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
204 2000.03[民89.03]
- 頁 次:
頁130-136
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
214 2001.01[民90.01]
- 頁 次:
頁117-130
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
228 2002.03[民91.03]
- 頁 次:
頁139-146
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
175 1997.10[民86.10]
- 頁 次:
頁132-140
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
243 2003.06[民92.06]
- 頁 次:
頁163-168
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
36:3 民91.05-06
- 頁 次:
頁50-55
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
230 2002.05[民91.05]
- 頁 次:
頁194-203
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
106 1992.01[民81.01]
- 頁 次:
頁173-181
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題 名:
CMP固定磨粒拋光墊特性與性能表現:The Process Performance of CMP Fixed Abrasive Pad
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
266 2005.05[民94.05]
- 頁 次:
頁19-29
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題 名:
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題 名:
高壓均質技術應用簡介:The Introduction of High Pressure Homogenization Technique
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
267 2005.06[民94.06]
- 頁 次:
頁69-78
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
16:2=175 1990.02[民79.02]
- 頁 次:
頁244-256
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
41:3=476 2015.03[民104.03]
- 頁 次:
頁118-136
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- 題 名:
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編 次:
下
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
40:1=462 2014.01[民103.01]
- 頁 次:
頁87-103
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- 題 名:
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編 次:
上
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
39:12=461 2013.12[民102.12]
- 頁 次:
頁6-20
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
39:12=461 2013.12[民102.12]
- 頁 次:
頁71-84
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
39:5=454 2013.05[民102.05]
- 頁 次:
頁34-46