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題 名:
低壓化學氣相沉積應用技術:Low Pressure Chemical Vapor Deposition Technology
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
363 2013.06[民102.06]
- 頁 次:
頁72-81
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題 名:
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題 名:
透明導電膜製程設備之整合電控技術:The Integration of Electric Control Technology for TCO Process Equipment
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
363 2013.06[民102.06]
- 頁 次:
頁92-111
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題 名:
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題 名:
透明導電膜製程設備之整合電控技術:The Integration of Electric Control Technology for TCO Process Equipment
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
289 2014.06[民103.06]
- 頁 次:
頁59-78
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
350 2012.05[民101.05]
- 頁 次:
頁107-116
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題 名:
大面積LPCVD氣流場模擬分析:Analysis of Flow Field in a Large-scale LPCVD Reactor
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
338 2011.05[民100.05]
- 頁 次:
頁10-18
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
338 2011.05[民100.05]
- 頁 次:
頁19-29
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題 名:
應用3D多體積方法模擬LPCVD之氣流場:The Simulation of Flow Field in LPCVD Using 3D Volumes Method
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
326 2010.05[民99.05]
- 頁 次:
頁87-95
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
314 2009.05[民98.05]
- 頁 次:
頁96-103