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Influence of Cobalt Silicides on the Reliability of Gate Oxides in VLSI Circuits: 鈷矽化物對超大型積體電路閘極氧化層之可靠度的影響
鄭晃忠 戴鴻昌
材料科學
23:4 1991.12[民80.12]
頁302-308
TCI引用統計