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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:3 2000.09[民89.09]
- 頁 次:
頁136-143
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題 名:
氮化鎵乾式蝕刻技術(ICP-RIE)之研究:On the Study of GaN Dry Etching by Using Inductively Coupled Plasma
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
33:3 2001.09[民90.09]
- 頁 次:
頁136-142
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:2 2003.06[民92.06]
- 頁 次:
頁130-134
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:1 2003.03[民92.03]
- 頁 次:
頁24-30
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題 名:
控制電漿位置以成長類鑽奈米尖錐:Deposition of Nano Diamond-like Tip by Plasma Position Controlling
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:1 2003.03[民92.03]
- 頁 次:
頁31-35
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題 名:
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題 名:
電漿噴焊氫氧基磷灰石材料之模擬體液研究:Plasma Spray of Hydroxyapatite: A Simulated Body Fluid Study
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
36:1 2004.03[民93.03]
- 頁 次:
頁53-58
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題 名:
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題 名:
以微波電漿化學氣相沉積法在鑽石緩衝層上成長立方氮化硼薄膜:Growth of Cubic Boron Nitride Films on Diamond Buffer Layers Via MPCVD
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
36:1 2004.03[民93.03]
- 頁 次:
頁59-63
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:4 2003.12[民92.12]
- 頁 次:
頁231-239
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
36:2 2004.06[民93.06]
- 頁 次:
頁116-120
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
36:4 2004.12[民93.12]
- 頁 次:
頁210-222
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
38:3 民95.09
- 頁 次:
頁121-128
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
38:3 民95.09
- 頁 次:
頁175-180
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題 名:
pH值對鋰鈷氧正極分散性質和電池性能的影響:Effects of pH on the Dispersion and Cell Performance of LiCoO[feaf] Cathodes
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
38:1 民95.03
- 頁 次:
頁1-6
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題 名: