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題 名:
物理氣相沈積截面型態之數值模擬:Simulation of Thin Film Cross Sectional Morphology for PVD Process
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:3 2003.09[民92.09]
- 頁 次:
頁146-152
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
37:2 民94.06
- 頁 次:
頁93-99
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題 名:
利用熱燈絲化學氣相沈積法研究奈米碳管之成長:Growth of Carbon Nanotubes via Hot-Filament CVD
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
36:2 2004.06[民93.06]
- 頁 次:
頁134-137
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
36:4 2004.12[民93.12]
- 頁 次:
頁203-209
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題 名:
CrN/Cr(N,O)複合鍍膜之製程與特性研究:Study on Process and Characteristics of CrN/Cr(N,O) Duplex Coatings
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
37:1 民94.03
- 頁 次:
頁1-7
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題 名: