查詢結果
檢索結果筆數(53)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
33:4 2001.12[民90.12]
- 頁 次:
頁209-215
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:3 2000.09[民89.09]
- 頁 次:
頁109-119
-
-
題 名:
Sintering Behavior and Microstructure of Nano-Mo/Al[feaf]O[feb0] Composites:奈米鉬/氧化鋁複合材之燒結行為及微結構分析
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
33:1 2001.03[民90.03]
- 頁 次:
頁10-19
-
題 名:
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
33:3 2001.09[民90.09]
- 頁 次:
頁166-170
-
-
題 名:
添加氧化鋁粉末對鋯英砂--高嶺土反應燒結系統之影響研究:A Study on the Reaction Sintering of Kaolin-Zircon-Alumina Systems
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
33:3 2001.09[民90.09]
- 頁 次:
頁171-177
-
題 名:
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
33:3 2001.09[民90.09]
- 頁 次:
頁184-188
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
33:3 2001.09[民90.09]
- 頁 次:
頁189-193
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:4 2000.12[民89.12]
- 頁 次:
頁179-185
-
-
題 名:
濺鍍銅膜之氧化行為研究:On the Oxidation Behavior of Sputtered Copper Film on Si Wafer
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:1 2002.03[民91.03]
- 頁 次:
頁1-7
-
題 名:
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:1 2002.03[民91.03]
- 頁 次:
頁17-26
-
-
題 名:
Microstructure Evolution of Sol-gel to SnO[feaf] Thin Film:二氧化錫薄膜由溶膠-凝膠至薄膜之微結構演變
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:1 2002.03[民91.03]
- 頁 次:
頁49-54
-
題 名:
-
-
題 名:
Febrication and Characterization of Partially Reduced NiO-YSZ Cermets:部分還原氧化鎳-氧化釔安定化氧化鋯陶金之製備與分析
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:2 2003.06[民92.06]
- 頁 次:
頁83-90
-
題 名:
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:2 2003.06[民92.06]
- 頁 次:
頁101-107
-
-
題 名:
中孔奈米晶型二氧化錫之製備:Synthesis of Mesoporous Tin Oxide by Supramolecule-Templation of Hydrous Sol
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:2 2003.06[民92.06]
- 頁 次:
頁108-112
-
題 名:
-
-
題 名:
電化學沉積鎳奈米線的成長特性研究:Growth Characteristics of Electrodeposition of Ni Nanowires
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:2 2003.06[民92.06]
- 頁 次:
頁113-116
-
題 名:
-
-
題 名:
奈米晶界高介電積體化薄膜電容之研究:Study on Nano-grain Boundary-high Dielectric Integrated Thin Film Capacitor
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:1 2003.03[民92.03]
- 頁 次:
頁58-63
-
題 名:
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:3 2002.09[民91.09]
- 頁 次:
頁144-152
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:3 2002.09[民91.09]
- 頁 次:
頁165-172
-
-
題 名:
以氧氣感測器控制氣體滲氮之可行性研究:A Study on White Layer Control in Gas Nitriding Process Using an Oxygen Sensor
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:3 2002.09[民91.09]
- 頁 次:
頁173-178
-
題 名: