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- 卷 期:
33:4 2001.12[民90.12]
- 頁 次:
頁247-252
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- 題 名:
- 作 者:
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- 卷 期:
35:2 2003.06[民92.06]
- 頁 次:
頁130-134
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題 名:
控制電漿位置以成長類鑽奈米尖錐:Deposition of Nano Diamond-like Tip by Plasma Position Controlling
- 作 者:
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- 卷 期:
35:1 2003.03[民92.03]
- 頁 次:
頁31-35
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題 名:
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題 名:
入口流速對MOCVD反應室內氣體分佈的影響:The Influence of flow Rate on Gas Distribution in MOCVD Chamber
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:4 2002.12[民91.12]
- 頁 次:
頁255-260
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:2 2002.06[民91.06]
- 頁 次:
頁112-116
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題 名:
以微波電漿化學氣相沉積法在鑽石緩衝層上成長立方氮化硼薄膜:Growth of Cubic Boron Nitride Films on Diamond Buffer Layers Via MPCVD
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
36:1 2004.03[民93.03]
- 頁 次:
頁59-63
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
36:2 2004.06[民93.06]
- 頁 次:
頁116-120
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- 題 名:
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- 書刊名:
- 卷 期:
38:3 民95.09
- 頁 次:
頁149-156