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在底層電極上以常溫成長氮化鋁薄膜之研究:The Study of AlN Thin Film Grown on Bottom Electrode under Room Temperature Condition
黃靜茹 黃興祿 陳亮斌 謝光宇 Hwang, J. L.; Huang, H. L.; Chen, L. B.; Hsieh, K. Y.;
材料科學與工程
34:1 2002.03[民91.03]
頁55-60
TCI引用統計