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NH₃電漿氮化技術在Hf-silicate/Gd/TaC NMOSFET上之研究:The Device of TaC/Gd/Hf-based Gate nMOSFETs with NH3-plasma Treatment
陳啟文 鍾宜佐 黃正全 陳育廷 宋大偉 Chen, Chii-wen; Zhong, Yi-zuo; Huang, Zheng-quan; Chen, Yu-ting; Song, Da-wei;
明新學報
39:1 2013.02[民102.02]
頁1-8
TCI引用統計