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不同矽膜預熱溫度之熔化時間研究與分析:Temperature Dependence of Melt Duration of Silicon Thin Films during XeF Excimer Laser Crystallization
郭啟全 葉文昌 李箕峰 鄭正元 Kuo, Chil-chyuan; Yeh, Wen-chang; Lee, Ji-Feng; Jeng, Jeng-Ywan;
明志學報
39:1 2007.06[民96.06]
頁19-25
TCI引用統計