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題 名:
巨磁阻[Giant Magnetoresistive]磁頭技術的發展現況--製作容易、構造簡易的膜可望於2-3年後先行商品化:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
107 1995.11[民84.11]
- 頁 次:
頁138-147
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題 名: