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不同矽膜厚度與預熱溫度之再結晶特性研究:Effects of Si Film Thickness and Substrate Temperature on Recrystallization Behavior in Excimer Laser Crystallization
郭啟全 Kuo, C. C.;
工業材料
260 2008.08[民97.08]
頁150-160
TCI引用統計