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檢索結果筆數(10)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
168 2000.12[民89.12]
- 頁 次:
頁147-153
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
168 2000.12[民89.12]
- 頁 次:
頁154-160
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
197 2003.05[民92.05]
- 頁 次:
頁124-128
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題 名:
低溫環化聚亞醯胺材料發展與應用:Development and Application of Polyimide Materials in Low Temperature Imidization
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
333 2014.09[民103.09]
- 頁 次:
頁162-170
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
238 民95.10
- 頁 次:
頁98-105
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題 名:
數位曝光在光學微結構的製作技術:Digital Exposure Technology for Low Carbon Applications in Microstructure Production
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
448 2024.04[民113.04]
- 頁 次:
頁93-100
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題 名:
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題 名:
工業級微型3D Eye-in-hand感測模組技術:Industrial Mini 3D Eye-in-hand Sensing Module Technology
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
421 2022.01[民111.01]
- 頁 次:
頁140-151
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題 名:
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題 名:
顯示器用無光罩製程技術專利分析:Patent Analysis of Maskless Process in Display Manufacturing
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
412 2021.04[民110.04]
- 頁 次:
頁78-86
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題 名:
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題 名:
無光罩數位曝光技術與應用:Maskless Digital Lithography Technology and Application
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
412 2021.04[民110.04]
- 頁 次:
頁87-95
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題 名:
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題 名:
數位低介電損耗重分佈層材料技術:Low Dielectric Loss RDL Material for Digital Lithography Technology
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
430 2022.10[民111.10]
- 頁 次:
頁72-78
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題 名: