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準分子退火矽膜之再結晶機制研究:Recrystallization Mechanism of Polycrystalline Silicon Thin Films Fabricated by Excimer Laser Annealing
郭啟全 Kuo, C. C.;
工業材料
257 2008.05[民97.05]
頁206-214
TCI引用統計