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次元分析在I.C.製程光阻覆蓋之應用:Application of Dimensional Analysis to the Spin Coating Procedure in the Manufacturing Process of Integrated Circuit
唐麗英 黎正中 李威儀 林俊材 Tong, Lee-ing; Li, Chang-chung; Lee, Wei-i; Lin, Jun-tuair;
工業工程學刊
13:4 1996.10[民85.10]
頁381-390
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