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高介電絕緣層對先進金氧半場效應電晶體元件影響之研究:On the Impact of High-k Gate Dielectric for MOSFETs: Simulation-Based Study
李薰 江孟學 Li, Hsun; Chiang, Meng-hsueh;
宜蘭大學工程學刊
6 2010.03[民99.03]
頁65-73
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