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砷化銦金氧半電容的介面特性研究與優化:Optimization of Interfacial Treatment, Study of Interfacial Properties and Characterization of InAs-Based Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors
林育詩 陳仕鴻 林明慧 孫偉鈞 張俊彥 陳宜鴻
奈米通訊
23:3 2016.09[民105.09]
頁2-6
TCI引用統計