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雙面奈米壓印技術製作寬波段之抗反射相位延遲系統:Broadband Antireflective and Chromatic Phase Retardation System Fabricated by Dual-side Nanoimprint Lithography
游振傑 陳愉婷 萬德輝 陳學禮
奈米通訊
18:2 2011.06[民100.06]
頁39-46
TCI引用統計