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深紫外線光阻曝光後烘烤製程模擬之物理及演算法:Simulation of the Post-exposure Bake Process of Deep Ultraviolet Resists: Physics and Algorithm
李宗隆
國科會國家毫微米元件實驗室通訊
7:2 2000.05[民89.05]
頁10-15
TCI引用統計