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The Effects of Annealing Parameters on the Evolution of Surface Morphology of A-Si Thin Films Irradiated by ArF Excimer Laser:ArF準分子雷射退火參數對非晶矽薄膜退火後表面形貌變化影響之研究
陳大同 張至宇 Chen, Ta-tung; Chang, Chih-yu;
中正嶺學報
34:2(A) 民95.05
頁171-183
TCI引用統計