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Composition Determining Mechanism in Synthesis of Silicon Carbide Films from SiH[feaf]Cl[feaf]/C[feaf]H[feaf]Chemical Vapor Deposition System:二氯矽甲烷/乙炔化學氣相沉積系統合成碳化矽薄膜的組成決定機構
洪儒生 吳常明 Hong, Lu-sheng; Wu, Chang-ming;
Journal of the Chinese Institute of Chemical Engineers
31:1 2000.01[民89.01]
頁79-89
TCI引用統計