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題 名:
Simulation with a Multi-MOS Model for Power Semiconductor Devices:多數金氧半導體模型用於高能元件之模擬
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
18 2004.06[民93.06]
- 頁 次:
頁1-9
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
209 2004.05[民93.05]
- 頁 次:
頁152-159
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
28:4 2015.12[民104.12]
- 頁 次:
頁36-43
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題 名:
中共培育網路對抗人才之規劃及展望:The PRC's Plan and Development for Talents Cultivation on Cyber War
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
特刊 2010.11[民99.11]
- 頁 次:
頁105-120
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題 名:
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題 名:
高能射線對光電二極體元件特性之影響:The Effect of High Energy Irradiation on Opto-electronic Diode
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
39:4 2009.08[民98.08]
- 頁 次:
頁475-490
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題 名:
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題 名:
高能雷射鏡片超低損耗光學薄膜之研究:Investigation on Ultra-low-loss Thin Optical Film of High-energy Laser Mirror
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6 2010.01[民99.01]
- 頁 次:
頁184-193
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
15:1=162 2009.01[民98.01]
- 頁 次:
頁97-110
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:4 民93.10
- 頁 次:
頁35-40
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題 名:
離子束製程技術簡介(上):Introduction to Ion Beam Processing Technology (1)
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
28:2=154 民95.10
- 頁 次:
頁59-67
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題 名:
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題 名:
離子束製程技術簡介(下):Introduction to Ion Beam Processing Technology (2)
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
28:3=155 民95.12
- 頁 次:
頁64-72
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
108 2007.08[民96.08]
- 頁 次:
頁167-171