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題 名:
Evaluation of Lithographic Performance of Chemically Amplified Deep-UV Resist:化學增幅型深紫外光阻劑之微影製程評估
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
24 1999.08[民88.08]
- 頁 次:
頁69-80
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題 名:
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- 題 名:
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編 次:
1
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
7:2 2000.05[民89.05]
- 頁 次:
頁31-35
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
157 2000.01[民89.01]
- 頁 次:
頁170-174
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
8:1 2001.02[民90.02]
- 頁 次:
頁41-49
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9:10=103 2001.10[民90.10]
- 頁 次:
頁136-153
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
22:4=120 2001.02[民90.02]
- 頁 次:
頁46-61
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35 2000.12[民89.12]
- 頁 次:
頁15113-15140
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
10:3=108 2002.03[民91.03]
- 頁 次:
頁136-152
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:10=55 1997.10[民86.10]
- 頁 次:
頁136-153
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:4 1996.10[民85.10]
- 頁 次:
頁381-390
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
43 2002.09[民91.09]
- 頁 次:
頁171-180
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9:2 2002.05[民91.05]
- 頁 次:
頁37-40
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
195 2003.03[民92.03]
- 頁 次:
頁128-132
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- 題 名:
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編 次:
上
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
189 2002.09[民91.09]
- 頁 次:
頁175-178
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題 名:
IC製程用193nm光阻劑之製備及微影性質研究:Study on Synthesis and Lithographic Performance of 193nm Photoresist
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
84 2002.02[民91.02]
- 頁 次:
頁67-83
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題 名:
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- 題 名:
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編 次:
中
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
190 2002.10[民91.10]
- 頁 次:
頁174-177
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
7:3 2000.08[民89.08]
- 頁 次:
頁38-42
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
78 1994.07[民83.07]
- 頁 次:
頁81-85
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:5=146 2005.05[民94.05]
- 頁 次:
頁99-108