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檢索結果筆數(36)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6:4 1999.11[民88.11]
- 頁 次:
頁6-11
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題 名:
具高低研磨面晶圓之化學機械研磨模型的探討:The Chemical-Mechanical Polishing Model of Patterned Wafer Planarization
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
77 1999.10[民88.10]
- 頁 次:
頁57-71
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題 名:
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題 名:
動態隨機存取記憶體製程技術趨勢:The Trend of Dynamic Random Access Memory Process Technology
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
72 1998.09[民87.09]
- 頁 次:
頁56-62
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
19:1 2000.01[民89.01]
- 頁 次:
頁22-27
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
7:9=74 2001.09[民90.09]
- 頁 次:
頁130-136
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
27:8=313 2001.08[民90.08]
- 頁 次:
頁304-313
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
27:8=313 2001.08[民90.08]
- 頁 次:
頁314-327
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
167 2000.11[民89.11]
- 頁 次:
頁121-126
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
8:3=80 2002.03[民91.03]
- 頁 次:
頁136-142
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題 名:
積體電路製程技術趨勢:The Trend of Integrated Circuit Process Technology
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
140 1997.11[民86.11]
- 頁 次:
頁144-156
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題 名:
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題 名:
CMOS揮發性記憶體製程技術簡介:Introduction to CMOS Volatile Memory Process Technology
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
141 1997.12[民86.12]
- 頁 次:
頁184-190
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
3:3=20 1997.03[民86.03]
- 頁 次:
頁63-69
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:1 1998.03[民87.03]
- 頁 次:
頁30-34
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題 名:
CMP技術之應用與其發展的趨勢:CMP Technological Applications & Developments
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:4 1997.07[民86.07]
- 頁 次:
頁72-76
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
3:1 1996.03[民85.03]
- 頁 次:
頁17-22
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
2:4=9 1996.04[民85.04]
- 頁 次:
頁149-153
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
113 1996.05[民85.05]
- 頁 次:
頁65-71
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
3:4=21 1997.04[民86.04]
- 頁 次:
頁100-105
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題 名:
化學機械研磨製程之有限元素建模:Finite Element Modeling for Chemical Mechanical Polishing Process
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
17 2003.06[民92.06]
- 頁 次:
頁273-284
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題 名: