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A Novel Self-aligned TiN Formation by N[feaf]﹢ Implantation During Two-step Annealing Ti-salicidation for Submicrometer CMOS Technology Application:次微米互補金氧半場效電晶體製程中利用氮離子植入鈦矽化合物形成鈦氮化物的新技術
陳啟文 Chen, Chii-wen;
明新學報
14 民84.06
頁79-83
TCI引用統計
2
大氣輝光電漿電氣特性研究:
李依穎 林保全 楊明哲
電力電子
7:3 2009.05[民98.05]
頁36-42