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檢索結果筆數(14)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
17 1999.11[民88.11]
- 頁 次:
頁1-12
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
26:3 2001.08[民90.08]
- 頁 次:
頁118-128
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
218 2001.05[民90.05]
- 頁 次:
頁134-145
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
51:4=234 2004.08[民93.08]
- 頁 次:
頁16-25
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題 名:
Run-to-Run控制法則分析與比較:A Comparative Analysis of Run-to-Run Control Algorithms
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
258 2004.09[民93.09]
- 頁 次:
頁200-205
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
330 2010.09[民99.09]
- 頁 次:
頁78-90
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題 名:
450mm晶圓的超聲化學機械平坦化(上):Ultrasonic CMP for Low-Stress Polishing of 450mm Wafers (Ⅰ)
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
299 2011.11[民100.11]
- 頁 次:
頁165-172
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題 名:
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題 名:
450mm晶圓的超聲化學機械平坦化(下):Ultrasonic CMP for Low-Stress Polishing of 450mm Wafers (Ⅲ)
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
301 2012.01[民101.01]
- 頁 次:
頁155-162
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
37:10=435 2011.10[民100.10]
- 頁 次:
頁32-42
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題 名:
450mm晶圓的超聲化學機械平坦化(中):Ultrasonic CMP for Low-Stress Polishing of 450mm Wafers (Ⅱ)
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
300 2011.12[民100.12]
- 頁 次:
頁140-148
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
30:5 2009.10[民98.10]
- 頁 次:
頁381-392
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
254 2008.02[民97.02]
- 頁 次:
頁156-163
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
60 2008.06[民97.06]
- 頁 次:
頁8-14
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
253 2008.01[民97.01]
- 頁 次:
頁159-169