查詢結果
檢索結果筆數(6)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
-
- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
56:2 1998.06[民87.06]
- 頁 次:
頁137-145
-
- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
17:9=194 2011.09[民100.09]
- 頁 次:
頁94-103
-
-
題 名:
原子層沉積之綜合概述:原子層沉積之原理及運用:An Overview of Atomic Layer Deposition: Principles and Applications of ALD
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
15:3=164 2009.03[民98.03]
- 頁 次:
頁106-119
-
題 名:
-
-
題 名:
電漿輔助原子級氣相沉積技術介紹:Introduction of Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition Technique
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
30:4 2017.12[民106.12]
- 頁 次:
頁58-64
-
題 名:
-
-
題 名:
稀土類ALD前驅物之半導體應用:The Applications of Precursors with Rare Earth Element in Atomic Layer Deposition
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
438 2023.06[民112.06]
- 頁 次:
頁132-139
-
題 名:
-
-
題 名:
原子層沉積之前驅物技術:The Technology of Precursor for Atomic Layer Deposition
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
436 2023.04[民112.04]
- 頁 次:
頁42-50
-
題 名: