刊名
類目
出版年
資料類型
檢索結果筆數(1)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
在搜尋的結果範圍內查詢:
全部
排序
每頁顯示
1
應用雙雷射光技術以提升雷射尖峰退火的製程能力:
Hebb, Jeff; Wang, Yun; Chen, Shaoyin; Shen, Michael; Zhou, Senquan; Wang, Xiaoru; Owen, David; Shetty, Shrinivas; Le, Van; Fang, Emil;
電子月刊
16:9=182 2010.09[民99.09]
頁112-120
TCI引用統計