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題 名:
ALD設備與產業展望:Industrial Applications and Development Prospect of Atomic Layer Deposition
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:2=196 2013.10[民102.10]
- 頁 次:
頁71-80
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題 名:
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題 名:
原子層沉積技術在奈米製程之應用:Application of Atomic Layer Deposition on Template-Directed Growth of Nanostructures
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
30:2=166 2008.10[民97.10]
- 頁 次:
頁55-64
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題 名:
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題 名:
原子層沉積系統設計概念與應用:Design Concept and Applications of Atomic Layer Deposition System
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
29:1=159 2007.08[民96.08]
- 頁 次:
頁14-25
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題 名:
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題 名:
原子層沉積製程設備對薄膜品質的影響:The Influence of ALD Process Equipment on Film Quality
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:2 2021.06[民110.06]
- 頁 次:
頁38-43
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題 名: