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Reduction of Ultra-pure Water Usage in Wafer Rinsing Process via Sequential Compensatory Strategies:以分段互補策略達成晶圓洗滌程序之超純水使用減量
呂世源 湯慧秀 陳文章 劉大佼 Lu, Shih-yuan; Tong, Hway-show; Chen, Wen-chang; Liu, Ta-jo;
Journal of the Chinese Institute of Chemical Engineers
32:2 2001.03[民90.03]
頁117-124
TCI引用統計